半導体ドライエッチングプロセス用ガス開発

基礎、応用研究、分析(化学)

大阪府

￥

600万円〜1000万円

正社員

仕事内容

■半導体ドライエッチング用ガス開発としてエッチング評価および顧客への提案業務に携わっていただきます。

【具体的には】
同社では、半導体デバイス製造工程におけるプロセス課題を解決できる新規ガスをエッチングレシピとセットで半導体メーカに提案していくビジネスモデルへの転換を進めています。入社後は、これまでの経験・スキルを活かして最先端エッチング装置を用いたエッチング処理、各種分析機器を用いたプラズマ診断、SEMによる加工形状観察を実施し、プロセス条件およびプラズマ診断結果から加工形状を予測する回帰モデル構築という一連の新規ガス開発業務に従事頂きます。将来的には、評価対象ガスの提案、テーマの取りまとめを行うリーダーとして成長して頂くことを期待しています。

募集要項

応募方法

必要なスキル

【歓迎要件】
・半導体前工程のご経験
・エッチング装置を用いた実務経験が3年以上ある方
・デバイス要求を満たすエッチング条件を構築した経験を有する方
・エッチング装置の原理を理解し、操作することができる方
・各種測定器（断面SEM、膜厚測定器）、表面分析装置（XPS、FTIR）、プラズマ 診断装置（各種プローブ、発光分光装置、質量分析計）の原理を理解し測定できる方
・エッチングプロセスを扱える人材を育成及び指導した経験がある方
・専攻学科：電気・電子・情報工学系、化学系の方
・高圧ガス製造保安責任者をお持ちの方
・特定高圧ガス取扱主任者をお持ちの方

その他・PR

雇用形態

【正社員】

企業情報