電子ビームマスク描画装置光学設計

光学系機器設計・開発

本社：神奈川県横浜市磯子区新杉田町 最…

￥

400万円〜1100万円

正社員

仕事内容

【業務内容】
〇次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。
また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する。
広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計をお願いしたい。

応募条件・求められるスキル

【MUST】
・大学１年生レベルの力学、電磁気学、数学を、ある程度使いこなせる方。
　または、基礎的な力学、電磁気学、数学などを、卒業研究や業務などで使った経験のある方。

【WANT】
・電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などに従事した経験のある方。
・荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの利用経験のある方。
・電子顕微鏡等を手動で調整した経験のある方。
・技術文書、論文などの英語（主に読解）に抵抗が少ない方。

【ターゲットとなる人材の特性】
・半導体製造装置、液晶製造装置、その他精密機器装置のメーカー
・民間企業のエンジニアを希望するポスドク人材　他
・経験は無くても基礎能力期待で、大学関係（オーバードクター、ポスドク）
・ニコン、キャノン、オリンパス等で光学設計をされている方。

【学歴】
・大学卒業以上（物理・電子系学科出身が望ましい。）

募集要項

その他・PR

職場や職務の魅力

〇 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。
フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。
また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。
次世代装置としては、より高い描画精度が求められる為、高機能な光学設計を組み込むことが、次世代装置開発に求められる課題となります。
その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。
課題解決への道筋がつけられない際は、経験豊富なベテラン光学設計者からのアドバイスも得られ、自らの光学設計者としての成長が期待できる職場です。

企業情報