【神奈川/茅ヶ崎】半導体フォトレジスト材料開発（新規素材の合成・ポリマー重合など）※業界未経験歓迎【エージェントサービス求人】

製品開発(化学)、生産・製造技術(化学)

TTIC(TOK技術革新センター) 住…

￥

550万円〜799万円

正社員

仕事内容

【急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップシェアの素材メーカー／転勤当面無し／福利厚生◎／やりがい◎】

■職務内容：
同社のTTIC(TOK技術革新センター）材料二部半導体レジスト材料グループにて以下主な業務をご担当いただきます。
・レジストの特性改善につながる新規素材の設計・合成・スケールアップ
・レジスト用ポリマーの重合
・レジスト開発（フォーミュレーション、顧客対応、レジスト製造、GAL製造など）
・顧客や、他部署、他部門と議論し、顧客要望の実施、および課題解決
・勤務地はTOK技術革新センター（神奈川県寒川町）
・レジスト開発要員は、海外勤務の可能性もあり（韓国子会社出向にて開発業務）

■採用背景：
ArFレジスト開発においては、新規原材料の開発加速およびレジスト化により特性を早期に確認することが採用における重要項目となっております。
また、今後のNon-PFAS対応等、合成力強化、レジスト合わせこみ業務が必要であり、本件では主に有機合成経験値の高い方の募集を致します。

■同社について
【大手優良化学メーカー／社員定着率・働き方◎】
設立1940年・75年以上の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数18.4年です、自己資本比率70％超と安定経営を実現しています。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。
【急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア】
今後情報社会が進む中、5Ｇやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。

変更の範囲：会社の定める業務

応募条件・求められるスキル

＜最終学歴＞大学院、大学卒以上
＜応募資格/応募条件＞
■必須条件：いずれか当てはまる方
・化学系の大学 or 大学院卒もしくは化学系企業にて開発経験あり。
・低分子化合物の合成経験、高分子重合（好ましくはそれらの量産経験）
・半導体材料・電子材料に使用される化学薬品の取り扱い経験
・各種分析経験（ex. HPLC、GPC、NMR）　


＜語学力＞
歓迎条件：英語初級

＜語学補足＞
英語力のレベルは問いませんが、英語に苦手意識がないこと

募集要項

その他・PR

雇用期間

＜雇用形態補足＞
期間の定め：無
補足事項なし

＜試用期間＞
3ヶ月
※試用期間中、フレックスタイム適応外(通常の8:30 〜17:15 の勤務時間となります）

企業情報