メトロロジー装置使用の精度解析　電子ビームマスク描画装置

研究・設計・開発系その他

横浜市、新杉田駅

￥

600万円〜

正社員

仕事内容

・次世代電子ビームマスク描画装置の開発におけるメトロロジー装置を使った精度解析、評価

・解析、評価の結果から次世代測定器の性能に関して仕様としてのフィードバックを行う



■具体的には

〇チームリーダー：メトトロジー開発のチームリーダー

・メトトロジーGメンバーの技術指導及び育成

・新規測定器の選定、導入

・新規測定手法の開発

・測定器メーカーとの定例会議



■入社後まずは

測定業務へ担当者として参加していただき、下記項目の理解を深めるところからスタートしていただきます。

・測定器(位置・線幅)への理解

・評価結果の解析

・新規測定技術の開発

・描画装置に対する理解

※経験やキャリアに応じてお任せする業務を検討します



【使用するツール、ソフト、環境】

・Excel、MATLAB、プログラム（Python、C、Perl）、WINDOWS、UNIX系(描画機はUNIX系)



【期待・役割】

半導体の世代が進むにつれて描画機の性能評価の複雑化が見込まれ、適切に描画機の性能を評価する為の測定技術に対する要望が強くなっているため、新規の測定機メンバーの教育と育成を期待しております。



【充実の研修・育成制度】

OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。

各種研修や部門の中で勉強会も開催。

半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。

1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。

募集要項

企業情報