描画装置のデータ制御開発

メカトロ・制御設計・開発

横浜市、新杉田駅

￥

600万円〜

正社員

仕事内容

電子ビームマスク描画装置のデータパスにおけるソフトウェアシステムの開発・設計を担当していただきます。具体的には
・電子ビームマスク描画装置の機械制御用ソフトウェアの開発設計
・電子ビームマスク描画装置のデータ補正/変換/偏向制御　など

【職場や職務の魅力】
・電子ビームマスク描画装置の描画精度を決めるキーテクノロジーの１つである描画補正にスキルを生かせ、更なるスキルアップに繋がります。
・電子ビームマスク描画装置の機械制御からデータ補正/変換/偏向制御と様々なソフトウェアシステムの開発が可能であり、大規模なソフトウェアシステムの開発でもあることから苦しみも楽しさも味わうことができます。
・規模の大きい計算機・ネットワークシステム上で動作するソフトウェアの開発に従事することができます。
・高性能なGPUを使った開発が可能です。
・自社製品の補正技術開発ということもあり、主体的な開発がし易い環境があります。

募集要項

応募方法

選考プロセス

1次面接（WEB)
最終面接（対面、本社）
適性検査SPI

必要なスキル

【MUST】
・制御開発経験
・物理・数学の知識がある方。
・論理的思考ができる方。
・英語の読み書きができる方。

【WANT】
・ソフトウェア最適化（大容量データの高速処理化）の知識・業務経験がある方。
・GPUソフトウェア開発の経験がある方。
・大容量データを扱うソフトウェアの開発経験がある方。
・ソフトウェア設計(オブジェクト指向)の知識・業務経験がある方。
・マルチプロセス・マルチスレッド ソフトウェア開発の経験がある方。
・数値解析の知識がある方。
・統計学の知識がある方。
・コンピュータシミュレーションの経験がある方。
・ソフトウェアテスト・品質マネジメントの知識・業務経験がある方。

その他・PR

募集背景

部門・体制強化の為

雇用形態

【正社員】

企業情報