電子ビームマスク描画装置光学設計リーダー

光学系機器設計・開発

本社：神奈川県横浜市磯子区新杉田町 最…

￥

400万円〜1100万円

正社員

仕事内容

【業務内容】
〇次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。
また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する。
広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、新規光学設計をお願いしたい。

応募条件・求められるスキル

【MUST】
・電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などに従事した経験のある方。
・荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの利用経験のある方。

【WANT】
・電子顕微鏡等を手動で調整した経験のある方。
・大学１年生レベルの力学、電磁気学、数学を、ある程度使いこなせる方。
・技術文書、論文などの英語（主に読解）に抵抗が少ない方。
・基礎的な力学、電磁気学、数学などを、卒業研究や業務などで使った経験のある方。

【ターゲットとなる人材の特性】
・半導体製造装置、液晶製造装置、その他精密機器装置のメーカー
・民間企業のエンジニアを希望するポスドク人材　他
・荷電粒子ビーム関係の仕事をしてきた人で、理論的な面の能力が期待できる人
・ニコン、キャノン、オリンパス等で光学設計をされている方。

【学歴】
・大学卒業以上（物理・電子系学科出身が望ましい。）

募集要項

企業情報