要素開発　電子ビームマスク描画装置

基礎、応用研究、分析(電気・電子)、基礎、応用研究、分析(機械・メカトロ)

横浜市、新杉田駅

￥

600万円〜

正社員

仕事内容

電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。

次世代装置の開発ポジションとして、装置の運用評価、描画結果に対して精度向上のためのビッグデータ解析、補正機能の検討や特許提案、製品化に至る顧客対応まで幅広く活躍いただきます。



■具体的には

・次世代描画装置のシステム・要素開発

装置の知識を習得しながら運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計で定めた仕様通りかデータ解析を行います。解析結果を他部署と共有し、原因調査と対策検討を早期に行って補正機能の検討や実装指示、および特許提案やパテントクリアランス対応もお任せいたします。

他部署と協業しての海外顧客への装置リリースに従事する業務となります。



また、中長期的な次々世代描画装置システムに必要なキーパーツの要素開発も平行して行います。次世代では実装できなくとも次々世代に間に合うよう先行してキーパーツの要素検討・設計、プロトタイプのPOC機の立上げや評価を行う業務となります。

※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきA-12で募集している次世代装置開発リーダーを目指していただきます。



【採用背景】

半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。

従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。

こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。

募集要項

企業情報